标题：基于PLC的等离子体干法刻蚀设备控制系统的设计
作者：杨硕1，2；高峰2 李素华2；钟立华3
作者单位：1 上海交通大学自动化系，上海 200030；2 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，江苏 昆山 215300；3 昆山国显光电有限公司，江苏 昆山 215300
关键字：等离子体干法刻蚀（Plasma Dry Etching），PLC （Programmable Logic Controller），IPC（Industry Personal Computer）
摘要：针对大型等离子体干法刻蚀生产设备的工艺特点，根据公司的生产实际需求，对原有损坏机台控制系统进行了重新改造设计。基于真空系统、工艺气体混合调节系统、射频微波放电系统、传动控制系统和终点检测系统等各子系统的控制难点及实现过程，设计了以三菱Q06 PLC为核心和InTouch 10.0为上位机监控软件的等离子体干法刻蚀设备控制系统。在InTouch 10.0平台上，搭建了等离子体干法刻蚀系统的监控界面，通过上位机处理大量生产制程数据和归档重要配方参数，实现生产工艺流程各个环节的实时监控、设备工作运行状态的参数显示和系统的故障报警等功能。