2007年度  第9期


标题:RF-500型CVD镀膜机计算机控制系统
作者:徐香坤;孔祥玲;王庆
作者单位:沈阳理工大学应用技术学院,辽宁 抚顺 113122;中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司研发部, 辽宁 沈阳110168;东北大学机械工程与自动化学院,辽宁 沈阳110004
关键字:CVD镀膜机,温度,气体流量,计算机控制,精度
摘要:针对RF-500型CVD镀膜机传统的电气控制缺点,开发了基于PC-PLC的RF-500型CVD镀膜机计算机控制系统。介绍了RF-500型CVD镀膜机的结构以及工作原理;并对该控制系统的硬件结构和软件功能进行了描述。对该控制系统的控制效果进行了大量的实验研究,研究结果表明:基片温度控制精度达到±1℃、工作反应气体的流量控制精度达到10mL、可以进行精确的开关量控制。